-
سيڊ ڪرسٽل جي تياري جو عمل SiC سنگل کرسٽل جي واڌ ۾
Silicon carbide (SiC) مواد ۾ وسيع بينڊ گيپ، اعلي حرارتي چالکائي، اعلي نازڪ خرابي واري فيلڊ جي طاقت، ۽ اعلي سٿري ٿيل اليڪٽران ڊرفٽ ويلوسيٽي جا فائدا آھن، ان کي سيمي ڪنڊڪٽر جي پيداوار جي ميدان ۾ تمام گھڻو ترقي يافته بڻائي ٿو. سي سي سنگل ڪرسٽل عام طور تي پيدا ڪيا ويا آهن ...وڌيڪ پڙهو -
ويفر پالش ڪرڻ جا طريقا ڪهڙا آهن؟
چپ ٺاهڻ ۾ شامل سڀني عملن مان، ويفر جي آخري قسمت کي انفرادي ڊيز ۾ ڪٽيو وڃي ٿو ۽ ننڍن، بند ٿيل خانن ۾ پيڪ ڪيو وڃي ٿو، صرف چند پنن سان گڏ. چپ کي ان جي حد، مزاحمت، موجوده ۽ وولٹیج جي قدرن جي بنياد تي جانچيو ويندو، پر ڪو به غور نه ڪندو ...وڌيڪ پڙهو -
سي سي ايپيٽيڪسيل ترقي جي عمل جو بنيادي تعارف
Epitaxial پرت هڪ مخصوص واحد ڪرسٽل فلم آهي جيڪا ep·itaxial عمل جي ذريعي ويفر تي وڌندي آهي، ۽ سبسٽريٽ ويفر ۽ epitaxial فلم کي epitaxial wafer چئبو آهي. Silicon carbide epitaxial پرت وڌائڻ سان conductive silicon carbide substrate تي، silicon carbide homogeneous epitaxial ...وڌيڪ پڙهو -
سيمي ڪنڊڪٽر پيڪنگنگ جي عمل جي معيار جي ڪنٽرول جا اهم نقطا
سيمي ڪنڊڪٽر پيڪنگنگ جي عمل ۾ ڪيفيت ڪنٽرول لاءِ اهم نقطا في الحال، سيمڪڊڪٽر پيڪنگنگ جي پروسيسنگ ٽيڪنالاجي کي خاص طور تي بهتر ۽ بهتر بڻايو ويو آهي. جڏهن ته، مجموعي نقطه نظر کان، سيمي ڪنڊڪٽر پيڪنگنگ جا طريقا ۽ طريقا اڃا تائين مڪمل طور تي نه پهچي ويا آهن ...وڌيڪ پڙهو -
سيمي ڪنڊڪٽر پيڪنگنگ جي عمل ۾ چيلنجز
سيمي ڪنڊڪٽر پيڪنگنگ لاءِ موجوده ٽيڪنالاجيون آهستي آهستي بهتر ٿي رهيون آهن، پر ان حد تائين جنهن حد تائين خودڪار سامان ۽ ٽيڪنالاجيون سيمڪڊڪٽر پيڪنگنگ ۾ اختيار ڪيون ويون آهن سڌو سنئون متوقع نتيجن جي حاصلات کي طئي ڪري ٿي. موجوده سيمي ڪنڊڪٽر پيڪنگنگ عمل اڃا تائين متاثر ٿين ٿا ...وڌيڪ پڙهو -
سيمي ڪنڊڪٽر پيڪنگنگ پروسيس جي تحقيق ۽ تجزيو
سيميڪنڊڪٽر پروسيس جو جائزو سيمي ڪنڊڪٽر پروسيس ۾ بنيادي طور تي مائڪرو فيبريڪيشن ۽ فلم ٽيڪنالاجيز کي لاڳو ڪرڻ شامل آهي مڪمل طور تي چپس ۽ ٻين عنصرن کي مختلف علائقن ۾ ڳنڍڻ لاءِ، جهڙوڪ سبسٽريٽس ۽ فريم. هي ليڊ ٽرمينلز کي ڪڍڻ ۽ انڪپسوليشن کي آسان بڻائي ٿو ...وڌيڪ پڙهو -
سيمي ڪنڊڪٽر انڊسٽري ۾ نوان رجحان: حفاظتي ڪوٽنگ ٽيڪنالاجي جي درخواست
سيمي ڪنڊڪٽر انڊسٽري غير معمولي ترقي جي شاهدي ڏئي رهي آهي، خاص طور تي سلکان ڪاربائڊ (SiC) پاور اليڪٽرانڪس جي دائري ۾. برقي گاڏين ۾ سي سي ڊيوائسز جي وڌندڙ گهرج کي پورو ڪرڻ لاءِ ڪيترن ئي وڏي پيماني تي ويفر فيبس تعمير يا توسيع هيٺ آهن ، هي ...وڌيڪ پڙهو -
سي سي ذيلي ذخيرو جي پروسيسنگ ۾ بنيادي قدم ڇا آهن؟
سي سي سبسٽراٽس لاءِ اسان ڪيئن پيدا ڪريون ٿا- پروسيسنگ جا مرحلا هن ريت آهن: 1. ڪرسٽل اورينٽيشن: ڪرسٽل انگوٽ کي رخ ڏيڻ لاءِ ايڪس ري ڊفرڪشن کي استعمال ڪندي. جڏهن هڪ ايڪس-ري شعاع کي گهربل ڪرسٽل چهري تي هدايت ڪئي وڃي ٿي، تڙيل شعاع جو زاويو ڪرسٽل جي رخ جو تعين ڪري ٿو...وڌيڪ پڙهو -
هڪ اهم مواد جيڪو طئي ڪري ٿو سنگل کرسٽل سلکان جي ترقي جي معيار - حرارتي ميدان
اڪيلو ڪرسٽل سلکان جي ترقي جو عمل مڪمل طور تي حرارتي ميدان ۾ ڪيو ويندو آهي. هڪ سٺو حرارتي ميدان ڪرسٽل جي معيار کي بهتر ڪرڻ لاءِ سازگار آهي ۽ اعليٰ ڪرسٽلائيزيشن ڪارڪردگي آهي. حرارتي فيلڊ جي ڊيزائن گهڻو ڪري تبديلين ۽ تبديلين کي طئي ڪري ٿو ...وڌيڪ پڙهو -
epitaxial واڌ ڇا آهي؟
Epitaxial واڌ هڪ ٽيڪنالاجي آهي جيڪا هڪ واحد ڪرسٽل پرت کي هڪ واحد ڪرسٽل سبسٽريٽ (سبسٽريٽ) تي ساڳئي ڪرسٽل جي رخ سان گڏ ڪري ٿي، جيئن ته اصل ڪرسٽل ٻاهران وڌايو ويو آهي. هي نئون وڌيل سنگل ڪرسٽل پرت سي جي لحاظ کان سبسٽريٽ کان مختلف ٿي سگهي ٿو ...وڌيڪ پڙهو -
substrate ۽ epitaxy جي وچ ۾ ڇا فرق آهي؟
ويفر جي تياري جي عمل ۾، ٻه بنيادي ڳنڍيون آهن: هڪ آهي سبسٽريٽ جي تياري، ۽ ٻيو آهي epitaxial عمل کي لاڳو ڪرڻ. سبسٽرٽ، هڪ ويفر احتياط سان سيمي ڪنڊڪٽر سنگل کرسٽل مواد مان تيار ڪيو ويو آهي، سڌو سنئون ويفر جي پيداوار ۾ وجهي سگهجي ٿو ...وڌيڪ پڙهو -
Graphite Heaters جي ورسٽائل خاصيتن کي ظاهر ڪرڻ
Graphite heaters انهن جي غير معمولي ملڪيت ۽ استحڪام جي ڪري مختلف صنعتن ۾ لازمي اوزار طور سامهون آيا آهن. ليبارٽريز کان وٺي صنعتي سيٽنگن تائين، هي هيٽر مواد جي جوڙجڪ کان وٺي تجزياتي ٽيڪنالاجي تائين عملن ۾ اهم ڪردار ادا ڪن ٿا. جي وچ ۾ مختلف ...وڌيڪ پڙهو